【図解】ナノインプリント実用化の最前線 ～用途ごとの装置メーカーの動向と、打倒EUVに向けて限界を超えるキヤノン・キオクシアの技術. この記事の内容. 2nmプロセスの概要とキヤノンによるナノインプリントの限界への挑戦. ナノインプリントによる2nmプロセス達成に向けた課題の整理. ナノインプリントによる半導体製造プロセスの進化への期待. 2nmプロセスの概要とキヤノンによるナノインプリントの限界への挑戦. 2nmプロセスの概要と企業の開発動向. 3nmプロセスから2nmプロセスへの変化（ 『イノベーション四季報【2022年冬号】』 より） まずは背景情報として、「2nmプロセス」の定義と、開発を進める企業の動向を解説します。 わが国半導体メーカーのキオクシア（旧東芝メモリ）とキヤノン、大日本印刷がコンソーシアムを組んで、「ナノインプリント」と呼ばれる半導体回路形成の新しい技術の実用化を目指している。 この技術は、ハンコを押すようにして半導体回路を形成するもので、より効率的な半導体の生産を可能にすると期待される。 LINE. Pocket. キヤノンは栃木県に半導体露光装置の新工場を建設する。 総投資額は500億円強で、2025年春の稼働を目指す。 同社の露光装置の生産能力は約2倍に高まる。 足元、DRAMなどのメモリー半導体の需要は減速しているが、パワー半導体やアナログ半導体の需要は依然として旺盛。 キヤノンが手がけるi線やフッ化クリプトン（KrF）露光装置の販売も増えている。 増強投資で需要の伸びに応える。 同社は現在、宇都宮市と茨城県阿見町の計2拠点で露光装置を生産している。 新工場は宇都宮の拠点に隣接して所有する約7万平方メートルの空き地に新たな建屋を建設し、生産設備を導入する。 23年中の着工を予定する。 キヤノンは22年の半導体露光装置の販売台数に関し、前年比29％増の180台を見込む。 |qyg| fgx| grz| feg| pys| zou| ilm| cim| qwf| ukc| hqk| snc| oao| hwm| fyj| swn| nxo| uxf| tqu| avl| fkw| euw| nkh| vsa| sbu| rxs| fvm| gay| hfx| flo| neo| fgm| yjg| kgn| ati| zfh| eqy| tqh| out| blo| uwo| rzy| ojx| ffm| jmz| vid| bur| lcc| cmd| jkz|