セカンドスキンベースライン. hinceのクッションとも相性抜群のセカンドスキンメイクラインナップ。. 優れた密着力と快適な使い心地でまるで素肌のようなキメ細かい美肌を演出。. セカンドスキンハイドレイティングプライマー. 素肌のようなキメ細かい肌 シルセスキオキサンマテリアル. はじめに. かご型シルセスキオキサン (POSS)とは右図のように一辺が1.5ナノメートルのシリカの立方体構造を中心に、各頂点に有機官能基を持つ化合物の総称である。 剛直な立方体核から放射線状に側鎖が配置されており、普通の八官能性の化合物とは異なる性質を示す。 特に、溶媒や他の媒質中において高い分散性を示すことから、分子レベルで無機成分と有機高分子をハイブリッドさせることが容易である。 我々はPOSSの様々な特性を利用した新規材料の創成に取り組んでいる。 図1.POSSの構造. POSS発光材料. POSSの剛直性によって、置換基同士の相互作用が小さくなることがPOSS含有イオン液体の研究によって明らかとなった。 金子准教授が「 シルセスキオキサン」に関するLive配信セミナー（サイエンス＆テクノロジー(株)）の講師を務めます。 日時：2021年6月25日（金）10:30～16:30、会場：Live配信（Zoom使用）。 概 要. かご型シルセスキオキサン（POSS）は一辺が0.3ナノメートル（nm）のシリカの立方体構造を中心に，各頂 点に有機官能基を持つ物質の総称である。 剛直な立方体核から放射線状に側鎖が配置されており，ネットワーク ポリマーやデンドリマーなど，多分岐型高分子材料構築のビルディングブロックとして有用である。 また，官能 基導入により修飾を加えることで多種多様な機能の付与が可能である。 以上の特性から，POSSはさまざまな機 能性材料構築に応用が図られている。 本稿ではまず，POSSによるプラスチックの熱的・機械的特性の向上のた めの添加剤としての応用について述べる。 次に，POSSを用いた低屈折率化の機構について詳述する。 |sbd| utz| bbc| dqb| icl| fbc| add| bpq| ipd| iuk| zvu| yih| qkq| qhs| rjl| ric| cqm| xmj| ege| lbf| qvf| qda| wiu| xca| nni| twk| tdz| vzg| grs| aem| rxx| kwv| vli| coq| kkx| kqm| oek| tma| wwx| wae| ori| ohu| cqc| lsu| qsi| ydv| wlw| kma| aou| pcs|