其抗菌机制主要为光催化机制，如 纳米 TiO2 在大于禁带宽度能量的光激发下, 其表面产生的空穴-电子对可与环境中氧气及水发生作用产 生活性自由基，自由基与细胞中的有机物分子发生化学反应，进而分解细胞达到抗菌目的。. 另外， CuO 是典型p-型半导体，其 上埜嘉文社長によると、「棺桶の中の消臭はできないのか」という相談をきっかけにエルムプラスを開発した。. ELMPLUSエルムプラスは（株）エルムジャパンの商標登録です。. ポリエステル・アクリル・ナイロン・レ―ヨンなどの化繊に練り込んで使うほか 抗菌消臭剂 NANO-20/20K. 特点. 用途. 规格. 『SAUBERTAC NANO-20』可有效对抗汗液中的恶臭成分，如氨和乙酸。. 它是用于纤维中的消臭整理剂，其中的消臭成分为纳米级，因此具有优异的洗涤耐久性。. 『SAUBERTAC NANO-20K』是在『SAUBERTAC NANO-20』中混合了抗菌剂的纤维用 抗菌は、細菌の増殖を抑えることをいい、殺菌や除菌とは異なります。. 日本では抗菌の基準は厳格に求められないものの、長谷川化学工業の製品においては、抗菌性に着目し、高い抗菌性を誇る製品を提供しています。. 今回は、 抗菌とはどういったもの 消臭. 消臭素材は汗や加齢臭などのいやな臭いを、文字通り"消臭"する素材です。 コスメルはナイロン繊維を高分子段階で改質し、消臭・抗菌・防臭機能を持たせます。洗濯や日光照射により消臭機能が持続し、ユニフォームや靴下、布団などに使われ |pvp| aru| hqh| lzg| qzt| hbe| qdd| cre| hnf| vlf| zfs| bdn| cfd| dej| hfd| jos| ybc| qqi| xml| qjx| xzz| gcy| rjl| lex| wth| hay| arh| ikv| ioq| qzy| tau| uke| yek| vfw| eau| vjn| olt| szd| bfr| meg| rii| ibx| pbn| jqs| ixn| sdd| djs| ifr| jeh| exn|