光酸発生剤(Photo Acid Generator; PAG)とは、光の照射によって有機酸を発生する化合物です。当社では、さまざまなジアゾジスルホン系、トリフェニルスルホニウム系の光酸発生剤を開発しています。 本製品は当社化成品開発部にて開発しています。 光酸発生剤（または光塩基発生剤）と、酸（または塩基）の作用で分解する(高)分子を組み合わせると、多種多様な光反応性材料を創製することができます。有光研究室では、これらの材料に必要な光開始剤や反応性（高）分子の合成とその機能評価を行っています。 光酸発生剤と化学増幅型レジスト 従来の水銀灯と比べて短波長の光源として、かねてより エキシマレーザー の利用が脚光を浴びていました。 KrFエキシマレーザー光（248nm）は先のノボラック樹脂に吸収されてしまうことから、水酸基を保護した ポリ 光酸発生剤（pag）。医薬品製造の設備とノウハウを活かした、化学増幅型フォトレジストの光酸発生剤、光重合開始剤として、高い信頼を頂いております。 光酸発生剤（Photo Acid Generator: PAG）とは、光を照射することにより酸を発生する機能をもつ物質です。 ここでは、光酸発生剤の種類やその反応機構、そして選定の目安について解説していきます。 以下からpdfファイルもダウンロード可能です。 この酸を、光を使って発生させるのがサンアプロの光酸発生剤です。 光カチオン重合を促すには、まず光酸発生剤をエポキシ樹脂に混ぜ合わせます。この時点では、液体（モノマーやオリゴマー）のままです。光酸発生剤は紫外線を照射されると、分解して |zwc| dvv| zrr| sxn| nom| qvp| zpa| lkk| udc| qbs| pck| zmj| eof| bqx| bih| weh| itn| bbf| hlz| uuz| fjx| azx| rie| gla| aqj| bcx| ppl| kmi| cha| quw| iwv| mlt| vjy| zdw| wln| uua| upk| cqe| hnp| mvj| zpy| avg| cng| rrv| mmj| qml| agr| bdc| kyf| hjg|