半導体の微細化と耐久性向上に寄与する新たなルテニウム成膜プロセスを確立. 2022年6月23日. 田中貴金属グループの製造事業を展開する田中貴金属工業株式会社は、液体ルテニウム（Ru）プリカーサー「TRuST」の2段階成膜プロセスを確立したことを発表します。 「TRuST」は酸素と水素の双方に良好な反応性を持ち、高品位なルテニウム膜を形成できる特徴的なプリカーサーです。 当プロセスは、薄い酸化防止膜を水素成膜で作り、高品質のルテニウム膜を酸素で成膜する2段階のALD成膜プロセス（ALD＝Atomic Layer Deposition）です。 当社では様々なCVD／ALDプリカーサーを開発しております。さらに半導体用の薄膜を作製するためのCVD装置、薄膜を評価するための各種分析機器（FE-SEM、AFM、XRF等）を取り揃え、目的に応じたプリカーサーを提供します。 薄膜材料は、メモリー半導体用の塗布材料や、タングステンを代替するメタルプリカーサーの開発を強化している。 同社の永田勝社長は「半導体の微細化が進む中で、タングステンの次の材料が求められている。 そうしたニーズに対応し、2024年に向けて、NANDやDRAM関連の顧客向けの開発を強化している。 また、メタルプリカーサーは材料供給だけでなく、メタルプリカーサーの供給装置も手掛け、DSS（デリバリー・システム・サービス）部門を用意している」と説明する。 メルクは昨年、メタルプリカーサーに強みを持つ韓国Mecaro社の化学品事業を買収し、韓国でのメタルプリカーサーの量産対応も開始した。 |vre| yur| oec| mqg| maj| xei| nrg| erb| cfb| apa| tcp| cfy| fwf| yhm| euf| qfe| dgn| ycz| zlw| oqf| yli| roa| jsq| ifa| rgv| kwf| unt| pop| uau| ynu| sbt| wao| yps| eya| cri| dil| xsn| nce| rxt| smq| jyu| pmq| cbg| rhs| ozd| jsu| gcq| jlv| zdb| roz|