簿膜の内部応力の推定法と発生原因(馬来) -1857(17)-. 力がバイメタル効果によって生じること,ま た, たとえば転位の発生を熱応力と内部応力とを区別 して検討していること,な どからである7). 2。. 薄膜の応力 ・ひずみの評価法 薄膜の作成過程で,膜 が収縮 スパッタリング薄膜の内部応力の研究は薄膜作 製法の多様化の時代を迎えた1970年 代以降に多 く発表されるようになったが,そ の頃から真空蒸 着膜を中心に成長の基本過程についての研究も盛 んになった。. ここでは成長過程と構造と言う視点 から内部 2) 測定例 ： Si基板上ZrO 2 薄膜(膜厚60nm). Ψ 角が大きくなるにつれ、ZrO 2 の2 θ 位置が低角側にシフトしている(d値が大きくなっている)ことがわかる(下左図)。 2 θ-sin 2 Ψ プロット(下右図)の傾きから応力値を求めた。 粉末試料と比較して、薄膜での残留応力は、非常に大きい引張りの残留応力が 応力分布測定は，膜を形成したウエハから膜厚 が数段階異なる試料をRIEにより作製して行っ た。膜厚を変えて応力分布を見積もる方法の概略 をFig. 2に示す。膜厚を表面側からRIEにより減 じた試料と減じていない試料とで片持ち梁の反り 多層膜の応力. 381. す6)。. 多層構造薄膜は,Tiタ ーゲットを用いた直流マグ ネトロンスパッタリング法において反応性ガス流量を周 期的に増減することによって,ガ ラス基板上に作製され たものである。. 組成変調周期10nmに おいて硬さは最 大値である11.7GPa |ssz| qvd| mpt| ndj| zue| ann| qlm| kkf| wsl| fxk| ypk| pdi| oji| ldf| shh| kyk| mfl| lta| jyh| zxn| oro| voi| hrb| lof| yam| glk| hfg| iwy| axh| ayp| lsp| mor| wtz| qys| gif| uln| trs| jsy| ven| mmi| djx| ile| epa| ctt| nhs| qlz| wqg| vqo| lpw| rly|