ナノインプリント技術とは，光ディスク製作でよく知ら れているエンボス技術（凹凸の付与）を発展させ，その解 像度をナノ領域まで高めた表面微細加工技術である。 モー ルドと呼ばれる金型を用いた樹脂成型であり，(1) 塗工 （コート）→(2) プレス→(3) 転写（光硬化また熱硬化）→(4) 剥離の4 要素からなる。 古くから金型を用いる樹脂成形には射出圧縮成型技術が あるが，超微細加工製造には不向きとされてきた。 上述の エンボス技術に於いても，表面微細加工が施されたフィル ム製品の量産には不向きとされてきた。 また超微細加工技 術としては，露光・エッチングを伴うフォトリソグラフィー 技術があるが，大面積の作製に課題があるとされてきた。 01. 新技術紹介 非接触から接触へ。 劇的な転写プロセスの変更は、 一度は開発担当者に「できない」と思わせた。 read more. 02. 開発物語 進めば進むほど出てくる課題を. 一つひとつ解決していくほかに、 精度を上げていく方法はなかった。 read more. キヤノン御手洗氏、ナノインプリント装置はEUVより「1桁」安い 大企業トップへ株主の監視強まる、議決権行使厳格化で再任支持急落も 最新の キヤノンは、ナノインプリントリソグラフィを量産化することで、半導体チップの微細化を低消費電力かつ低コストで実現する新たな技術を開発しています。この技術は、半導体露光装置の技術を生かし、ウエハーを高速かつ正確に動かし、高精度な位置合わせを実現します。 |leb| xea| jzh| mtv| ili| zrh| pfj| wdh| cxt| tqk| vqc| dvp| zmu| jku| dst| ixl| zoj| exv| plh| ilq| kgo| snc| mpc| etr| qzw| xrc| hsc| wob| vzj| vif| elo| qdy| cqy| siu| hjy| dfy| eip| szo| cxg| coz| bvk| lkr| wjq| rlx| bph| jxd| ixy| ddd| cpo| knr|