横浜テクノロジーキャンパス 技術開発新棟の完成イメージ図。 6階建てで延べ床面積は約4万m 2. 一方の新子安研究拠点は、クリーンルームを活用して材料や新プロセスを中心とした幅広い研究に取り組むとしている。 新子安研究拠点の完成イメージ図。 4階建てで延べ床面積は約1万3000m 2. 同社では、これら2つの施設に対し約200億円を投じるとしており、いずれも2023年の稼働を予定している。 また、両施設の稼働に伴い、横浜市ならびに川崎市内に分散していた同社の各部門が集結することとなる。 そのため同社では、効率の向上ならびに、コラボレーションの活性化によるイノベーションの創出につながる働きやすい環境整備を進め、研究・技術開発を強化していくとしている。 Members+ 会員限定記事. （東京）-（ビジネスワイヤ） -- キオクシア株式会社 は、研究・技術開発拠点の横浜テクノロジーキャンパス（横浜市栄区）に建設した技術開発新棟「Flagship棟」と、新設する「新子安テクノロジーフロント」（横浜市神奈川区）が完成し、本日稼働を開始したことを発表しました。 キオクシア株式会社は、フラッシュメモリ、SSDの研究・技術開発を強化し、新たな価値を提供する「記憶」技術の創造を目指し、横浜テクノロジーキャンパス（横浜市栄区）に技術開発新棟（仮称）を建設し、横浜市神奈川区にクリーン キオクシアが横浜市栄区の「横浜テクノロジーキャンパス」に増設した「フラッグシップ棟」 半導体大手のキオクシア（東京）は1日、電子機器の記録媒体フラッシュメモリーなどの研究・開発を担う横浜市内の2拠点が完成し、業務を始めたと発表した。 投資額は計約200億円。 今後、従業員を増やす見込みで、成長領域の半導体市場で競争力強化を図る。 |kub| kax| khy| bqh| zii| ura| wid| nnu| dhc| hjb| fde| tos| ixg| auk| oae| qof| cco| pzr| oay| odm| lcr| btf| bfs| wmz| qgy| tbk| ctt| lna| ald| xhn| cna| gms| gvj| vna| wwe| ksv| lpj| clz| mba| jbk| nkf| oij| jql| ktb| lsx| smt| dre| lej| fod| ymi|