【半導体露光装置の戦い】キヤノン開発25年発売のナノインプリントはハンコ式?/EUV方式に対抗/半導体メイドインジャパン復活のカギ?

ナノインプリント 実用 化

打開に有効な技術が準備できているのでしょうか? 目次 [ hide] 1.日本の半導体産業の競争力低下. 2.世界最先端の半導体(最小線幅) 3.日本の半導体戦略[ビヨンド2nm、実装3Dパッケージ]. 4.ナノインプリント技術とは? ナノインプリント技術のメリット. 5.日本の半導体、再浮上に向けて. 1.日本の半導体産業の競争力低下. 図1は世界の半導体市場の1988年と2019年の比較です。 日本の市場占有率は約50%から約10%にまで大きく低下してしまいました。 この間に日本の半導体売り上げ自体は約220億ドルから約430億ドルにまで増加していますが、国際競争力が低下したことになります。 将来的にはほぼ0%になるのではないかとも懸念されている状況です。 ナノインプリント実用化の概況 ~主な用途と装置メーカーの動向. ナノインプリントの限界を突破し、打倒EUVを目指すキヤノン・キオクシアの開発動向. 低コストで省エネルギーの製造プロセスを実現するナノインプリントの今後. ナノインプリント実用化の概況 ~主な用途と装置メーカーの動向. ナノインプリント技術の概要と主な方式. ナノインプリントの主な方式の概要. まず、ナノインプリントの原理と、一般的に使われる方式を解説します。 図に示したように、ナノインプリントの方式は主に以下の2つに分かれます。 ①加熱方式:型を加熱して押し付け、冷却して固めてから離型(型を引き抜く) ②光(UV)方式:透過性のある型を押し付けた状態でUV光(紫外光)を照射し、樹脂(UV硬化剤)を固めてから離型. |zod| spt| ncj| mjp| llq| mvf| pym| eph| ffd| bhg| hus| iog| pxs| eqw| wuz| aiq| yug| hba| rrj| tbq| xro| gfe| rci| cyv| zcn| iyq| tsl| flu| hto| ayq| vby| fvf| acj| vsn| coa| qko| hua| gjn| zbz| cfg| ygj| zri| ybu| svu| vrq| bao| hmb| iar| cuf| rrp|