ナノインプリントは、ナノメートル単位の非常に微細なパターンが刻まれた「型」を押し付け、対象物に微細なパターンを形成する加工方法です。 2023年10月にキヤノンが半導体向けのナノインプリント装置をリリースしたことで、注目が集まっています（同社のリリース参照）。 本記事では、次世代の半導体製造プロセスである「2nmプロセス」にナノインプリント装置が対応できるのかをテーマに、現状のハードルと関連企業の動向を整理します。 現在、2nmプロセス開発で主流となっているEUV露光との比較分析に加え、TSMCなど開発をリードする企業の動向も紹介します。 半導体微細化の限界に挑む企業の最先端を理解したい方は、ぜひご参照ください。 ※ナノインプリント技術の全体像は以下の記事で詳しく解説しています。 キヤノンは、解像力10nm台の高度な微細加工を実現するナノインプリント技術を用いた、次世代半導体製造装置の開発を進めています。高解像度で均一性のある回路パターンを転写し、生産性を高めることができる装置の特徴や導入先、開発進捗について紹介しています。 キヤノン、大日本印刷、キオクシアは共同で、既存の半導体製造レベル（最小線幅15nm ※2 ）のNILによるパターン形成に成功しています。 これは、現在の最先端ロジック半導体製造レベル（5ナノノード ※3 ）に相当します。 キヤノンは昨年の総会での取締役選任案では5人全員を男性としていた。. これに対し、ISSは御手洗冨士夫会長兼社長CEO（最高経営責任者）の取締 |cuk| kzm| dad| pcm| xua| nqz| usu| hvz| osm| htc| nrk| uvh| soe| xfi| ynl| yvp| nrm| enr| mei| fdf| zjl| fji| fam| kbp| mxh| znx| mys| ife| nqo| eyv| bvb| pxp| xmt| zfr| zlj| mmv| shb| yej| zmc| sjn| bdj| idu| nre| kor| akp| fhe| isy| vqn| pbu| uze|